中性子によるセラミック材料研究会・第4回研究会

日本セラミックス協会2006年年会(2006年3月14〜16日)で下記のサテライトプログラムを開催いたしますので、ふるってご参加ください。

なお、一般講演の数が時間枠の限度に達したため、一般講演の申し込みは締め切らせて頂きました。

1. プログラム名

中性子によるセラミック材料研究会・第4回研究会「粉末中性子回折技術の進展とセラミックスへの応用」

2. 主催・共催団体

主催:日本セラミックス協会・中性子によるセラミック材料研究会
共催:日本結晶学会日本中性子科学会

3. 開催内容

原子炉およびパルス中性子源を利用した粉末中性子回折技術(装置とソフトウェア)に関する最新情報を提供するとともに、種々のセラミックスへの中性子散乱の応用に関するオリジナル講演(すでに締切)も行う。

4. プログラム

プログラムについては下のPDFを参照されたい:

「粉末中性子回折技術の進展とセラミックスへの応用」プログラム

5. 参加対象者

粉末回折や中性子散乱に興味ある研究者・技術者。

6. 開催日・時間

2006年3月14日(火)、9:00〜12:00

7. 開催場所

東京大学駒場キャンパス、1号館105(O会場より変更)
〒153-8902 東京都目黒区駒場3-8-1

8. 参加費

無料(セラ協年会に参加登録しなくても聴講・発表可能)

9. 参加申し込み方法

当日も参加を受け付けるが、できれば事前に

(1) 所属
(2) 氏名
(3) 所属学会

を連絡者(下記)に電子メールで知らせていただきたい。

10. 連絡者

氏名: 泉 富士夫
勤務先: 物質・材料研究機構 物質研究所
電子メール:IZUMI.Fujio@nims.go.jp(←全角文字)